您的位置:首页 >基金 > 正文

TMT概念爆发,富乐德、朗科科技等涨停,容大感光等大涨_焦点精选

半导体、芯片等TMT概念24日盘中震荡走高,截至发稿,富乐德、光库科技、朗科科技“20cm”涨停,容大感光涨超18%,联特科技涨约15%,同益股份、太辰光涨超10%,长光华芯、南大光电涨超9%。

消息面上,5月23日,日本经济产业省发布省令,正式出台针对23种半导体制造设备(或物项)的出口管制措施,并将于7月23日开始实施。


(资料图)

本次措施主要是增加了6大类23种管制物项,对华出口需申请许可。在清单内的受管制物品在向中国大陆、俄罗斯等地区出口时,需要获得日本经济产业省的许可证。清单主要针对高端半导体制造设备,尤其是特别聚焦了ArF浸没式光刻、EUV配套设备及部件、钴/钨等金属沉积、高深宽比刻蚀和硅锗刻蚀等技术指标较高、材料特殊、在先进制程有针对性应用的半导体设备品种,而光刻胶等日本优势的半导体材料则未在限制行列之中。

具体这6大类23种半导体制造设备(或物项)主要包括:

1)光刻(4项):ArF浸没式光刻机、用于EUV光刻的涂胶显影设备、用于EUV光刻的光罩护膜(清单中唯一一种非设备品种,用于EUV光罩的配套)及其生产设备。其中EUV光刻机(仅荷兰ASML提供)的采购国内长期受限,日本限制EUV配套产品没有实质影响,而ArF浸没式光刻机日本尼康有相关产品,未来需观察许可实际发放情况。

2)刻蚀(3项):高深宽比刻蚀、硅锗刻蚀等。

3)薄膜沉积(11项):用于钴、钨、钼、钌等金属薄膜、Contact层、Low-k等介质、掩膜版、硅和硅锗外延等沉积的PVD/CVD/ALD/EPI薄膜沉积设备。

4)热处理(1项):用于铜、钴、钨的低压退火设备。

5)清洗(3项):铜膜清洗、干法清洗、晶圆改性后干燥的单片湿法清洗。

6)检测(1项):EUV光刻掩膜版检测设备。

中信证券指出,中国大陆为日本主要半导体设备厂商的重要收入来源地区之一,以日本半导体设备公司东京电子(TEL)、迪恩士(DNS)和尼康公司(Nikon)为例,三家公司2022年报(2021.4.1-2022.3.31)中国大陆客户营收占比分别为28.3%、26.2%、28.4%,均为其最大收入来源地区。本次出口限制主要针对先进半导体制造,符合先前预期。否则若日本对华成熟芯片相关的半导体设备也实际施加限制,则将会影响日本相关设备公司的营收,长期削弱日本在半导体设备领域的份额优势,同时中国本土技术生态链有望在重压下加速本土替代。

该机构表示,当下从产业安全角度,建议重点关注设备、零部件、材料、高端芯片等易“卡脖子”环节,有望获得政策推动。短期来看,建议关注日本及荷兰厂商占有领先地位的、并能够实现国产替代的设备、材料环节;长期来看,建议关注受益国产替代加速的设备、零部件、材料等各环节的相关公司。建议关注半导体设备、零部件公司。

标签:

热门资讯

最新图文

资讯播报